簡(jiǎn)介：

真空氮化爐是一種在低壓（真空）環(huán)境下對(duì)金屬工件進(jìn)行氮化處理的工業(yè)設(shè)備。其原理是將工件置于密封的爐腔中，抽真空并加熱至450~650°C。然后通入氨氣（NH?）等介質(zhì)。通過(guò)控制溫度、真空度和氣體流量，使氮原子擴(kuò)散到工件表層，形成一層高硬度、高耐磨性的氮化層，同時(shí)保持了芯部原有的韌性。

該設(shè)備廣泛應(yīng)用于齒輪、軸承、模具、精密零件等的表面強(qiáng)化，尤其適用于不銹鋼和合金鋼等材料。

主要優(yōu)勢(shì)：

1. 氮化層質(zhì)量?jī)?yōu)異：真空環(huán)境可減少氧化和脫碳，氮化層均勻均勻，無(wú)黑脆、孔隙等缺陷，表面光潔度高。

2. 性能顯著提升：氮化層硬度更高，耐磨性、耐腐蝕性和抗疲勞性均優(yōu)于傳統(tǒng)氣體氮化。

3. 材料適應(yīng)性廣：可處理不銹鋼、高溫合金等傳統(tǒng)氮化易發(fā)生問(wèn)題的材料，避免鉻的氧化損失。

4. 工藝可控性強(qiáng)：通過(guò)精確控制溫度、真空度和氮?jiǎng)荩删_調(diào)節(jié)氮化層深度，以滿足不同零件的要求。

5. 環(huán)保高效：減少有害氣體排放，加熱速度快，加工周期短，能耗更低。

相關(guān)配置

相關(guān)配置：

1.加熱室

加熱室：圓形/方形

加熱元件：石墨/鉬

加熱室由不銹鋼框架、隔熱層、加熱元件、保溫部件和爐床組成。根據(jù)客戶需求，加熱元件采用不同材質(zhì)，適用于各種應(yīng)用場(chǎng)景，最高工作溫度可達(dá)1300℃，爐溫均勻性優(yōu)異。

2.真空系統(tǒng)

根據(jù)客戶需求，可選配EVP、Leybold等國(guó)內(nèi)外知名真空泵品牌。

3.控制系統(tǒng)

本設(shè)備運(yùn)行控制采用西門(mén)子S7-1200可編程邏輯控制器。設(shè)備的真空泵、閥門(mén)、加熱電源、冷卻風(fēng)扇等部件均采用聯(lián)鎖保護(hù)控制。系統(tǒng)可對(duì)設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中出現(xiàn)的異常情況進(jìn)行判斷和報(bào)警，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)控制和數(shù)據(jù)傳輸功能。所有低壓元器件均采用西門(mén)子、施耐德、菲尼克斯等國(guó)際品牌，質(zhì)量、性能和工藝均高度可靠，降低了控制系統(tǒng)的故障率。

l網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)控制和數(shù)據(jù)傳輸功能。

l遠(yuǎn)程故障診斷、遠(yuǎn)程工藝調(diào)試等功能。

l支持軟件升級(jí)更新。

4.其他系統(tǒng)

我們的測(cè)溫系統(tǒng)采用9點(diǎn)測(cè)溫方式，實(shí)時(shí)精準(zhǔn)跟蹤產(chǎn)品溫度，確保爐溫均勻性保持在±3℃至±5℃范圍內(nèi)。

氣動(dòng)系統(tǒng)采用觸摸屏自動(dòng)控制，可實(shí)現(xiàn)整個(gè)氣路的氣動(dòng)控制。充氣系統(tǒng)一次設(shè)置，無(wú)需重新調(diào)節(jié)；其開(kāi)關(guān)由電磁閥控制，調(diào)節(jié)簡(jiǎn)便、方便。

另配備水冷系統(tǒng)，主要用于控制爐體、真空泵和加熱電極的溫度，確保真空爐的正常運(yùn)行。

技術(shù)參數(shù)：

售后及驗(yàn)收服務(wù)

生產(chǎn)完成后，制造工廠將進(jìn)行工廠驗(yàn)收測(cè)試，包括：

1.極限真空測(cè)試

2.壓力上升速率測(cè)試

3.所有設(shè)備系統(tǒng)完整性檢查

設(shè)備運(yùn)抵用戶現(xiàn)場(chǎng)后，將進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)收測(cè)試，包括：

1.整體安裝

2.整體調(diào)試

3.用戶培訓(xùn)

4.資料交接

保修

保修期為最終驗(yàn)收合格之日起一年。保修范圍包括非人為損壞的部件（不包括消耗品/易損件），以及保修期內(nèi)產(chǎn)生的人工維護(hù)服務(wù)和運(yùn)輸費(fèi)用。